번호 | 사진 | 설명 | |
---|---|---|---|
1 | 장비명 | X-Ray Diffraction (XRD) | |
용도 | 다양한 고체시료 결정 구조 분석 ( 단결정, 저차원 나노 박막, 세라믹 ) |
||
특성 | - theta, 2theta 각도축 외에 phi, chi 각도축을 움직일 수 있어 정밀 x-ray 빔 align가능 - 단결정이나 에피-박막의 결정성 및 구조적 대칭성 분석 가능 | ||
2 | 장비명 | 타원편광분광기 | |
용도 | 증착/성장한 단일 혹은 다층 박막 두께 등에 대한 정보(두께, 굴절률, 흡수계수)를 비 파괴적으로 동시 측정 | ||
특성 | - 다양한 소자(반도체, 열전, 압전 등)에 사용되는 단일층 박막 및 다층 박막에 대한 광학적 특성 확인 - 다양한 광소자의 빛 공진기 제작 등에 필수 활용 - 다른 종류의 소자에서 사용되는 절연층, 반도체 박막, 유기물 박막 등의 두께, 이의 광학적 굴절률/흡수계수 등의 기본 특성 평가에 활용 |
||
3 | 장비명 | 비활성기체의 플라즈마를 이용한 건식식각 이온밀링 시스템 (Ion milling system using inert gas plasma) |
|
용도 | 건식식각 공정을 이용한 미세 패터닝에 의한 소자 및 나노 구조물 제작 | ||
특성 | - 비활성기체 (Ar)의 플라즈마를 이용하여 화학적인 반응이 배제된 순수한 물리적인 건식 식각공정 장비로 물질에 어떠한 화학적 변화를 유발하지 않으면서 미세 패터닝 가능. - 식각의 선택비가 낮아 물질의 종류에 관계없이 금속, 산화물을 망라한 다양한 물질을 식각할 수 있으므로 물질에 대한 제약이 거의 없음. - 식각의 비등방적 특성으로 높은 정확도를 갖는 정밀 패터닝이 가능하여 나노크기의 단위소자 제작이 가능. |
||
4 | 장비명 | SEM(SNE-45000M) | |
용도 | 일반 전자현미경과 동등한 분해능을 가진 최고상급의 Tabletop SEM | ||
특성 | - 최대 10만배까지 영상을 관찰할 수 있어 경제적 - 쉽게 조작이 가능한 Variable Aperture 장착 - 고분해능인 5nm의 높은 Image Scan 가능한 장비 |